国产光刻机突围战打响！中国已布局超200项EUV相关专利，这些企业正在悄悄卡位核心环节

2026-01-07 13:14:07 佰腾网 6 阅读 0 赞

截至2024年底，中国在EUV光刻相关技术领域累计布局专利237件，覆盖光源、光学系统、精密控制等关键子系统。中科院、长春光机所及博枫电子、思岚光电等机构企业成为主力申请人。佰腾网专利查询支持多维度技术检索与高价值专利分析，助力企业精准卡位产业链关键环节。

当全球半导体设备竞争进入白热化阶段，EUV光刻机早已不是ASML的专属标签——越来越多中国创新主体正以专利为矛，在光源、精密光学、真空环境控制、晶圆对准算法等关键子系统展开密集布局。据佰腾网专利查询最新统计，截至2024年底，中国申请人在中国大陆公开/授权的与EUV光刻技术直接或高度关联的发明专利、实用新型及PCT进国家阶段专利合计已达237件，较2021年增长超65%。值得注意的是，这些专利并非集中于整机仿制，而是精准切入‘可替代、可验证、可产业化’的技术接口：例如中科院上海光机所围绕极紫外激光源稳定性提升的多级脉冲同步控制方案（CN202210XXXXXX.X）；长春光机所在多层膜反射镜热形变补偿结构上的突破性设计；以及多家高校联合企业申报的基于机器视觉的掩模版微缺陷实时识别方法——这类专利已进入中试验证阶段，部分技术指标接近国际二线厂商水平。更值得关注的是产业端的务实动作。江苏博枫电子聚焦EUV曝光模块中的静电吸盘温控系统，近三年连获4项发明专利授权；思岚光电则在极紫外波段专用石英透镜镀膜工艺上构建了包含材料配比、沉积参数、应力调控的三层专利壁垒。此外，还有十余家专精特新‘小巨人’企业在光栅尺校准、真空腔体焊接变形抑制、高精度运动平台振动抑制等‘卡脖子’配套环节提交高质量专利申请。这些专利背后，是研发路径的悄然转变：从‘整机追赶’转向‘模块攻坚’，从‘技术引进’转向‘标准预埋’。尤其在《知识产权强国建设纲要》和《专利转化运用专项行动方案》双重推动下，多地集成电路产业园区已将EUV关联专利纳入高价值专利培育清单，并配套开展专利导航与FTO（自由实施）分析服务。对国内芯片制造厂、设备集成商及上游零部件企业而言，及时掌握EUV技术演进脉络与专利分布态势，已成为规避侵权风险、锁定合作标的、评估技术可行性的刚需动作。佰腾网提供覆盖全国范围的专利查询服务，支持按技术分支（如‘极紫外光源’‘多层膜反射镜’‘工件台控制算法’）、申请人、IPC分类号等多维度交叉检索，还可一键生成技术发展时间轴与重点申请人对比图，助力企业快速锚定技术突破口与潜在合作伙伴。同时，结合商标查询与企业查询功能，可进一步识别技术持有方的产业化能力与商业信用，为产学研协同落地提供全链路支撑。

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