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本实用新型涉及一种刻蚀机用晶片压环,包括圆环形的压环本体,压环本体下部固定连接或一体成型有沿压环本体圆周环绕一周的凹槽体,所述凹槽体的开口向下。本实用新型晶片压环,其与石英隔离环之间存在的间隙路径变得更为复杂、且距离延长。在腔体内同等真空条件下,相对只能有极少部分反应气体分子能够通过此间隙从阳极到达阴极。这样在此区域也就基本上没有反应气体分子离子化并轰击阴极,原来频繁出现的RF反射功率报警已几乎没有出现,同时也确保了稳定的刻蚀深度,保证了产品的稳定产出。 - 佰腾专利检索