刻蚀图案套印高精度对位方法及装置 - 佰腾专利检索

摘要:

本发明公开了一种刻蚀图案套印高精度对位方法,包括下述步骤:S1:提供硅片和浆料载体;S2:视觉识别系统拍摄硅片的图片;S3:在图片上选取固定位置的ROI区域,通过垂直投影方法,获得一组ROI区域内的数据,通过离散数据曲线平滑算法对数据进行预处理,计算得出波峰的位置和线宽;S4:比对ROI区域内掩膜线的线宽与波峰的宽度,计算得出掩膜线图案的角度;S5:通过运动装置旋转硅片相应的角度和位置,使掩膜线的图案和浆料载体图案重合;S6:激光作用到浆料载体上,浆料最终作用到掩膜线的图案位置。同时,本发明还公开了一种刻蚀图案套印高精度对位装置。本发明提高了刻蚀图案与电极图案对位的精准度,提高了电池片的效率,节省了掩膜成本。 - 佰腾专利检索

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