本实用新型属于半导体领域,具体涉及一种半导体光刻生产工艺中的涂胶机供液装置,包括容纳溶液的供液器、用于气体通入的进气管路、用于气体排放的排气管路和向所述涂胶机提供溶液的供液管路,进气管路、排气管路和供液管路分别与供液器连通,进气管路上设有控制进气压力的压力控制件,排气管路上设有能根据气体压力自动启闭的自动泄压件。本实用新型能够实现对每个涂胶机台进行一对一的供液,同时压力过大时具备自动泄压功能。 - 佰腾专利检索
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