本实用新型属于薄膜清洗技术领域,尤其涉及一种高分子薄膜清洗设备,包括清洗台和支撑柱,所述支撑柱底部活动安装有防滑套,所述清洗台内部安装有挡水板,所述清洗台背面开设有清洗装置,所述清洗台侧端设置有干燥装置。该高分子薄膜清洗设备,通过设置干燥装置,使得薄膜在清洗后,可以很快地将薄膜表面的水分快速烘干,加快了高分子薄膜的生产效率,解决了背景技术中提出的未设置对薄膜的烘干装置,使得薄膜在清洗完成后,还要等到自然风干,降低了薄膜的生产效率的问题,通过设置清洗装置,使得高分子薄膜两边都能够得到喷洗,提升了该装置对高分子薄膜的清洗效率,且设置具有循环利用的装置,可以循环使用清洗水,节约了水资源。 - 专利查询 - 佰腾全球专利搜索平台