本发明公开了一种制作半导体元件及显示器的阵列基板的方法,制作半导体元件的方法包含:提供具有第一图案的光罩;通过此光罩在基板上形成图案化材料层,其中图案化材料层包含第一突出缺陷以及对应第一图案的正常图案层;通过光罩形成第一图案化光阻层覆盖正常图案层,第一突出缺陷暴露于第一图案化光阻层之外;以及使用第一图案化光阻层为遮罩蚀刻图案化材料层的第一突出缺陷。本发明提供的半导体元件的制造方法可以在原有的设备及元件设计下,提升制作出的元件合格率。 - 佰腾网专利查询 - 全球专利搜索领导品牌
制作半导体元件及显示器的阵列基板的方法