一种提高高度的埋栅式金属化电极构造 - 佰腾专利检索

摘要:

一种提高高度的埋栅式金属化电极构造,包括硅片,所述硅片顶端设置有金属电极,金属电极底部与硅片之间设置有子层电极。本实用新型具有结构紧凑、可实施性强、误差性小等特点。其埋入底层的子层电极硬度较高,可以达到塑型的效果;金属电极可以起到增大表面流畅性与圆润型的效果,同时增加了电极的金属化高度,以达到优化电极电阻的效果。当底部子层电极发生偏移,在没有超出金属电极的覆盖范围的情况下,同样可以达到提高金属化电极的效果,这样大大减少了在制备过程中的不良品的比例。并且该电池结构不需要提供额外动力,因而减少了能源损耗,其社会效益及经济效益显著。 - 佰腾专利检索

使用键盘键 进行切换
凯德盟-专注涉外知识产权服务12年
个性化你的检索平台
有奖
问答
联系
我们
专利探索者
群号:580132322
立即加入

媛媛

1402342359

立即咨询

小倩

3326349102

立即咨询

  • 电话咨询:

    • 0519-88238872
  • 工作时间:

    • 周一~周五
    • 8:30~17:00
    • (其他时间联系客服QQ)
意见
反馈
用户
手册
返回
顶部