光刻机设备间特征尺寸匹配系统及方法 - 佰腾专利检索

摘要:

本发明属于半导体制造技术领域,具体涉及一种用于光刻机设备间特征尺寸匹配系统,包括:条件定义单元,用于定义光刻版的曝光条件a;差异分析单元,用于对机台间实际测量的特征尺寸的差异表现进行分析;校准单元,用于根据条件定义单元定义的曝光条件和差异分析单元的分析结果,对光刻版在不同光刻机上赋予不同校准值b;及数据处理单元,用于根据条件定义单元定义的曝光条件a和校准单元赋予的校准值b,进行实际曝光条件的运算,并将运算结果赋值给每一批需要待作业的光刻机圆片。本发明能够减少不同光刻机间不同产品及层次的微小差异,具有较高的实用价值。 - 佰腾专利检索

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