光刻机设备间特征尺寸匹配系统及方法 - 佰腾网专利查询 - 全球专利搜索领导品牌

本发明属于半导体制造技术领域，具体涉及一种用于光刻机设备间特征尺寸匹配系统，包括：条件定义单元，用于定义光刻版的曝光条件a；差异分析单元，用于对机台间实际测量的特征尺寸的差异表现进行分析；校准单元，用于根据条件定义单元定义的曝光条件和差异分析单元的分析结果，对光刻版在不同光刻机上赋予不同校准值b；及数据处理单元，用于根据条件定义单元定义的曝光条件a和校准单元赋予的校准值b，进行实际曝光条件的运算，并将运算结果赋值给每一批需要待作业的光刻机圆片。本发明能够减少不同光刻机间不同产品及层次的微小差异，具有较高的实用价值。 - 佰腾网专利查询 - 全球专利搜索领导品牌