一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂及其加工设备 - 佰腾网专利查询 - 全球专利搜索领导品牌

摘要：

本发明公开了一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂，其各组分的含量为：经过纳米均质机处理的0.01‑0.1质量份的纳米材料催化剂、3‑8质量份的络合分散剂、1‑5质量份的无机盐、5‑8质量份的表面活性剂、78.9‑90.99质量份的去离子水。有益效果：采用上述添加剂抛光的TOPCON电池，可以清洗干净绕镀过来的polySi和少量BPSG，选择性保护了BSG，控制了碱腐蚀速率，均匀清洗腐蚀绕镀，没有色差外观不良等问题，实现了双插工艺与单插工艺电池效率持平，而产能翻倍，成本降低，本发明重点有选择性保护了BSG的效果，从而解决双插工艺和外观问题。 - 佰腾网专利查询 - 全球专利搜索领导品牌

一种用于TOPCON电池LPCVD双插工艺的碱抛添加剂及其加工设备
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